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磨削之研磨拋光、磨粒流與珩磨的區別

訪問量 : 0    編輯時間(jiān) : 2023-09-22    來源: 去毛刺機

磨削之研磨拋光、磨粒流(liú)與(yǔ)珩磨的區別


1、磨粒流工藝

磨料流加工(AFM)工藝是(shì)理想的拋光和去毛刺方法,特(tè)別是對於(yú)複雜的內部形狀和有挑戰的表麵加工要求(qiú)。


磨粒流加工技術(Abrasive Flow Machining,AFM)又稱(chēng)為擠壓珩磨技術,起源於20世紀60年代(dài),是一種區別(bié)於傳統機械加工的光整加工方法。利用具有一定黏(nián)性的(de)流動磨料介質,在一定壓力作用下,通過引導(dǎo)流過工件的待加工表麵,磨料對(duì)材料形(xíng)成擠壓並進行微量去除,可以達到去除(chú)毛刺飛邊、孔口倒圓等加工效果(guǒ),重要的是可以降低待加工表麵的(de)粗糙度值,實現光整加工目的。得益於塑(sù)性極強的磨料,這種加工(gōng)技術幾(jǐ)乎可以對(duì)任意形狀的表麵進行光整(zhěng)加工,尤其是針對難以加工的複雜內腔表麵,能(néng)取得較好的光整加工效果,近年來這種技術在航空、航天、汽車和模具等行業得到了廣泛應用(yòng)。

1—活(huó)塞 2—工件 3—夾具 4—缸體

1.1工藝係統(tǒng)

磨粒流,簡單來(lái)說,就是一種通過半流體介質進行拋光去毛刺的工(gōng)藝,主要麵向內孔(kǒng)、以及不規則形狀的中小型工(gōng)件。磨粒流拋光工藝包含三個核(hé)心要素,即(jí)軟磨料、夾具與PLC係統:

軟磨料

  軟磨(mó)料是由非常細小的硬質(zhì)顆粒,混合相關液體,調製而成的半流(liú)體狀態的介質,磨料顆粒的大小(xiǎo)、硬度,以及半(bàn)流體的粘稠度、遇熱後是(shì)否會黏貼工件,是影響拋光去毛刺(cì)質量的關鍵。磨料(liào)通常選材有碳化矽、白剛(gāng)玉、金剛石等,根據各自的硬度,對應不同材質的工件。例如鋁製品、銅製品工件,選用碳化矽磨料即可。而(ér)硬度較高的鎢鋼、合金鋼,選(xuǎn)用白剛玉或金剛石(shí)更為合(hé)適。

工(gōng)裝夾具

選用夾具的原(yuán)因(yīn)是,為了提高工件拋光去毛刺的效率。一來(lái),一款夾具上可(kě)以同時夾持多個工件,一(yī)次性加工。二來,使用工(gōng)裝夾具後,退模換工件(jiàn)時,不必(bì)每次校準,大大減少了停機時間。

工裝夾具設計的關鍵在於,在提升效率的前提下,如何保持工件(jiàn)均(jun1)勻受力,而不致於使工件壓傷。

PLC係統

  PLC係統是整個磨粒流設備的控製中心,PLC係統設(shè)計地簡潔、規範,既可以讓操作(zuò)人(rén)員更快上手(shǒu),減少培訓磨(mó)合(hé)時間,又可以減少設(shè)備故障率,延長設備(bèi)使用壽命。

1.2磨粒流(liú)特點

(一(yī))可加工內(nèi)腔複雜的零件

(二)均勻性和重複性好

(三)可實現自動化(huà)生產

(四)生產(chǎn)效率高

(五)可控性及可預測性好

(六)加工表(biǎo)麵質好

1、研磨

研磨是將研磨工具(以(yǐ)下簡稱研具)表麵嵌人(rén)磨料(liào)或(huò)敷塗(tú)磨料並添加潤滑劑,在一定的壓力作(zuò)用下,使(shǐ)工件和研具接觸並做相(xiàng)對運動,通過磨料作用,從(cóng)工件表麵切去一層極薄的(de)切屑,使工件具有精確的尺寸、準確的(de)幾何形狀和很高的表麵粗糙度,這種(zhǒng)對工件表麵進行最終精密加工的方(fāng)法(fǎ),叫做研磨。

1.1研磨(mó)的種(zhǒng)類(lèi)


濕研(yán)將液狀研磨(mó)劑塗敷或連續加注於研具表麵,使磨料(W14~W5)在(zài)被加工的產品與研(yán)具間不斷(duàn)地(dì)滑動(dòng)與滾動,從而實現對工(gōng)件的切削。濕研應用較多。

幹研將磨料(W3.5~W0.5)均勻地(dì)壓嵌在研具表層上,研磨(mó)時需(xū)在研具表麵塗以少量的(de)潤滑劑。幹研多用於精研。

半幹研所用(yòng)研磨劑為糊狀的研磨膏,粗、精研均可采用。

1.2研(yán)磨的特點及應用範圍

設備簡單,精(jīng)度要(yào)求高。


加工質量(liàng)可靠。可獲得很高的精度和很低的Ra值。但一般不能提高加工麵與其他表麵之間的位置精度。

可加工各種鋼、淬硬鋼、鑄鐵、銅鋁(lǚ)及其合金、硬質(zhì)合金、陶瓷、玻(bō)璃及某些塑料製品等。

研磨廣泛用於單件小批生產中(zhōng)加工各種高(gāo)精度型麵,並(bìng)可用(yòng)於大批大量生產(chǎn)中。


1.3研磨機理(lǐ)


研磨的實質是用遊離的磨粒通過研具對工件表(biǎo)麵進(jìn)行包括物理和化(huà)學綜(zōng)合作用的微量(liàng)切前,其速度很低,壓力很小,經過研磨的工件可獲得0.001mm以內的尺寸誤差,表麵粗糙度一般能達到R.=0.4~0.1μm,最小可達Ra=0.012μm,表麵幾何形(xíng)狀精度和一些位置精度(dù)也可進一步提高。 

盡管(guǎn)研磨已廣泛應用於機械加工中,並且獲得了最佳的工藝(yì)效果(guǒ),但人們對研磨過程的(de)機(jī)理(lǐ)有(yǒu)多(duō)種觀點。

純切削(xuē)說

這種(zhǒng)觀點認為:研磨和磨削一樣,是一種純切削過程。最終精度的獲得是由很多微小的硬磨粒對工件表麵不斷切削,靠磨粒(lì)的尖(jiān)劈、衝擊、刮削和擠壓作用,形成無數條切痕(hén)重疊、互相交錯、互相抵消的加工麵。它與磨削的差別隻是磨粒顆粒較細(xì),切削運動不盡相同而已。這種觀點在實際過程中可以解釋(shì)許多現象,也能(néng)指導工作。例如,研磨過程中使用的磨料粒度一序(xù)比一序細,而獲得的(de)精度則一序比一(yī)序高。但這種觀點解釋不了用軟(ruǎn)磨料加工硬(yìng)材料,用(yòng)大顆粒(lì)磨粒卻能加工出低粗糙度表麵的實(shí)例,顯然這種觀點不全麵。

塑性(xìng)變形說

這種觀點認為在(zài)研磨時,表麵發生了級性變形。即在工件與研(yán)具表麵接觸運動中,粗糙高凸(tū)的部(bù)位在摩擦、擠壓作用下被“壓平”,填充了低四(sì)處,而後形(xíng)成極低的表麵粗糖度。住然而在研磨極軟材料(如鉛、錫等)時,產生塑性變形是有可能(néng)的(de);而用軟基體拋光硬材料(如光(guāng)學玻璃)時,則很難解(jiě)釋為塑性變(biàn)形。實際上,工件在研磨前後有質量(liàng)變化,這說明(míng)不是簡單(dān)的壓平過程(chéng)。

化學作用說

這(zhè)種觀點認為:被研(yán)磨表麵出現了化(huà)學變化過程。工件表(biǎo)麵活性物質在(zài)化學作(zuò)用下,很快就形成了一層化(huà)合物薄膜(mó);這層薄膜具有化學保護作用,但能被軟(ruǎn)質磨料除掉。研磨過程就是工件(jiàn)表麵高凸部位形成的化合物薄膜不斷被除掉又很快(kuài)形成的過(guò)程,最後獲得較低的表麵粗糙度。然而,顯微分析表明,經研(yán)磨(mó)的(de)表層(céng)約有微米(mǐ)程度的破壞層。這說明(míng)研(yán)磨不僅(jǐn)是(shì)磨料去除化合物薄膜的不斷形(xíng)成過程,並且對表麵層有(yǒu)切(qiē)削作用(yòng),而化學作用則(zé)加速了研磨過程。顯然(rán)化學作用說也不全麵。

綜上所述,研磨過程不可能由一種觀點來解釋。事(shì)實上,研磨是磨粒對工件表麵的切削、活性物質的化學作用及工件表麵擠壓變形等綜合作用的(de)結果。某(mǒu)一作用的主次(cì)程度取決於加工性質及加工過程的進展階段。

2、拋光

拋光是指利用(yòng)機械、化學或電化學的作用,降低工件表麵粗糙度(dù),獲得光亮、平整表麵的加工方法。主要是利用拋光工具和磨料顆粒等對工件表麵進行(háng)的修飾(shì)加工。

2.1拋光的分類


機械拋光


機(jī)械拋(pāo)光是靠切削或使材料表麵發生塑性變形而去掉(diào)工件表麵凸出部得到平滑麵的(de)拋(pāo)光方法,一般使用油石條(tiáo)、羊毛輪、砂紙等(děng),以手工操作為主,表麵質量要求高的可采(cǎi)用超精研拋的方法。超精研拋是采用特製的磨具,在含(hán)有磨料的研拋液(yè)中,緊(jǐn)壓在工件被加工表麵(miàn)上,作高速旋轉運動。利用該技(jì)術(shù)可達到Ra0.008 μm的(de)表麵粗糙度,是各種拋光方法中表麵粗糙度最好的。光學鏡片模具常采用這種方法。

化學拋光


化學拋光是材料在化學介質中讓表麵微觀凸出的(de)部分較凹部分優(yōu)先溶解(jiě),從而(ér)得到平滑麵。該方法可以拋光形狀複(fù)雜的工件,可以同時拋光很多工件,效率高。化學拋光得到的表麵粗(cū)糙度一般為Ra10 μm。

電解拋光


電(diàn)解拋光基本原理(lǐ)與化學拋光相同(tóng),即靠選擇性溶解材料表麵微小凸(tū)出部分,使表麵光滑。與化學拋光相比,它(tā)可消除陰極反應(yīng)的影響(xiǎng),效果較好。

超聲波拋光


超聲(shēng)拋光是利用工具(jù)斷麵作超聲波(bō)振動,通過磨料懸浮液拋光脆硬材料的一種加工方法。將工件放入磨料懸浮(fú)液中並一起置於(yú)超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表麵(miàn)磨削拋光。

流體拋光


流體拋光是依靠流動的液體及其攜帶的磨粒衝刷工件表麵達到(dào)拋光的目的。流體動力研磨(mó)是由(yóu)液(yè)壓驅動,介質主要采用在較低壓力下流(liú)過性好的特殊(shū)化合物(聚(jù)合物(wù)狀物質)並摻入磨料製(zhì)成,磨料可采用碳化矽(guī)粉末。

磁研磨拋光


磁研磨拋光是利用磁性磨料(liào)在磁場作用下形成磨料刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質(zhì)量好,加工條件容易控製。。

電火花超聲複合拋光(guāng)


為了提高表麵粗(cū)糙(cāo)度(dù)Ra為1.6 μm以上工件(jiàn)的拋光速度(dù),采用超聲波(bō)與專用的高頻窄脈衝高峰值電流的脈衝電源(yuán)進行複合拋光,由超聲振動和(hé)電脈衝的腐蝕同時作用於工件表麵,迅速(sù)降(jiàng)低其表(biǎo)麵粗糙度。

2.2拋光的工藝過程


粗拋


精銑、電火花(huā)加工、磨削等工藝後的表麵可以(yǐ)選擇轉速在35 000~40 000 r/min的旋轉表麵拋(pāo)光機進行拋光(guāng)。然後是手工油石研磨,條狀油(yóu)石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。使用順序為(wéi)180#→240#→320#→400#→600#→800#→1 000#。

半精拋


半(bàn)精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數依次為:400#→600#→800#→1 000#→1 200#→1 500#。實際上#1 500砂紙隻用(yòng)適(shì)於淬硬(yìng)的模具鋼(52 HRC以(yǐ)上),而(ér)不適用於預硬鋼,因為(wéi)這樣可能會導致預硬鋼件表麵損傷,無法達到預期拋光效果。

精拋


精拋主要使用鑽石研磨膏。若用拋光布輪混合鑽(zuàn)石研磨粉或研磨(mó)膏進行研磨,則通常的研磨順序是9 μm(1 800#)→6 μm(3 000#)→3 μm(8 000#)。9 μm的鑽石研(yán)磨膏和拋(pāo)光布輪可用來去除1 200#和1 50 0#號砂紙留下的(de)發狀磨痕。

4、珩磨

在對零件加工的過程中,會使用到多種工藝,其中珩磨加工(gōng)是對孔進行精整加(jiā)工的一種(zhǒng)加工方式。

珩磨工藝是一種以被加工麵為導向,在一(yī)定進給壓力下,通過工具和零件的相對運動去除加工餘量,其切削軌跡為交叉(chā)網紋的精孔加工工藝。


3.1珩磨原(yuán)理


珩磨是利用安裝於珩磨頭圓周(zhōu)上的一條或多(duō)條油石,由漲開機構將油石沿徑(jìng)向(xiàng)漲開,使其壓向工件孔壁,以便產生一定的接觸麵。同時珩磨頭(tóu)旋轉和往複運動。零件不動;或者珩磨頭隻(zhī)做旋轉運動,工件往複運動,從而實現珩磨。


珩磨的切削有三種模式:定壓進給珩磨、定量進給珩磨、定壓-定量進給珩磨。

3.2珩磨加工的特(tè)點:


加工精度高:特別是(shì)一些中小型通(tōng)孔,圓柱度能達到0.001mm


表麵質量好(hǎo):表麵為交叉網紋,有(yǒu)利於潤滑油(yóu)的存儲及油膜的保持。


加工範圍廣:主要加工各種圓柱形孔:通孔、軸(zhóu)向和徑向有間(jiān)斷(duàn)的孔


切削(xuē)餘(yú)量少。


糾孔(kǒng)能力(lì)強:采用(yòng)珩磨加工工藝可以通過去(qù)除最少加工餘量而極大地改善孔和外圓的尺寸(cùn)精度、圓度、直線度、圓柱度和表麵粗糙度。


3.3珩(héng)磨的切削過程


定壓(yā)進給珩磨


定壓進給中,進給機構以恒定的壓力壓向孔壁,分三個階段。

第一個階段是(shì)脫落切削階段,這種定壓(yā)珩磨,開始時由於孔壁粗糙,油石與孔壁(bì)接觸麵(miàn)積很小(xiǎo),接觸壓力大,孔壁的凸出部分很快被磨去。而油石(shí)表麵因接(jiē)觸壓力大,加上切屑對(duì)油石(shí)粘結劑(jì)的磨耗,使磨粒與粘結劑的結合強度(dù)下降,因而有(yǒu)的磨粒在切削壓(yā)力的作用下自行脫落,油石麵即露出新磨粒,此即油石自(zì)銳。


第二階段是破(pò)碎切削階段,隨著珩磨的進行,孔表麵越來越(yuè)光,與油石接觸麵積越來越大,單(dān)位麵積的(de)接觸壓力下降,切削效率降低。同時切下的切屑小而細,這些切屑對(duì)粘(zhān)結(jié)劑的磨耗也很小。

因此,油石磨粒脫落很少,此(cǐ)時磨削(xuē)不是靠新磨粒,而(ér)是由磨粒尖端切削(xuē)。因而(ér)磨粒(lì)尖端負荷很大,磨粒易破裂、崩碎而形成新的切削刃。

第三階段(duàn)為堵(dǔ)塞切削(xuē)階段(duàn),繼續珩(héng)磨時油石和(hé)孔表麵的接觸麵(miàn)積越來越大,極細的切(qiē)屑(xiè)堆積於油石與孔壁之間不易排除,造成油石(shí)堵塞,變得很光滑。因此油石切削能力(lì)極低,相(xiàng)當(dāng)於拋光。若繼續珩磨,油石堵塞嚴重而產(chǎn)生粘結性(xìng)堵塞時,油石完全失去切削能力並嚴重發熱,孔(kǒng)的精度和表麵粗糙度均會受到影響。此時應盡快結束珩磨。

定量進(jìn)給珩磨


定量(liàng)進給珩磨時,進給機構以(yǐ)恒定的速度擴張進給,使(shǐ)磨粒強製性地切入工件。因此珩磨過程(chéng)隻存在脫落切削和破碎切削,不可能產生堵塞(sāi)切削現象。

因為當油石(shí)產生堵塞切削力下(xià)降時,進給量大於實際磨削量(liàng),此時珩磨壓力增高,從而使磨粒脫落、破(pò)碎(suì),切削作用增強。

用此種方法珩磨(mó)時,為了提高孔精度和表(biǎo)麵粗糙(cāo)度(dù),最後可用不進(jìn)給珩磨一定時間。

定壓--定量進給珩磨


開始時以定壓進給珩磨,當油石進入堵(dǔ)塞切削階段時,轉換為定量進給(gěi)珩磨,以提高效率。最後可用(yòng)不進給珩磨,提高孔的精度和表麵粗糙度。



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