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拋光機的拋光速率低該怎麽(me)辦?

訪問量 : 0    編輯時間 : 2023-09-22    來源: 擠壓研磨(mó)機

拋(pāo)光機的拋光(guāng)速率低解決這(zhè)個矛盾的最(zuì)好(hǎo)的辦(bàn)法就是把拋光分(fèn)為(wéi)兩個階(jiē)段(duàn)進行。

  粗拋目的是去除磨光損傷層,這一階段應具有最大的拋光速(sù)率,粗拋形成的表層損傷是次要的考慮(lǜ),不過也應當盡可(kě)能小;其(qí)次是(shì)精拋(或稱終拋),其目的是去除粗拋產生的表層損傷,使拋光損傷減到最小。拋(pāo)光(guāng)機拋光時,試樣磨麵與拋光盤應絕對平(píng)行並均勻(yún)地(dì)輕壓在拋光盤上,注意防止試樣飛(fēi)出和因壓力太(tài)大而產生新磨痕。

  同時,還應使試樣自轉並沿轉(zhuǎn)盤半徑方向來回移(yí)動,以避免拋光織物局部磨損太快(kuài)在拋光過程中要不斷添加微(wēi)粉懸浮液,使拋光織物保持(chí)一定濕度。濕度太大(dà)會減弱拋光的(de)磨痕(hén)作用,使試樣中硬相呈現浮凸和鋼中非金屬夾雜物及鑄鐵中石(shí)墨相產生“曳尾”現象;濕度太小時,由於(yú)摩擦生(shēng)熱會使試樣升(shēng)溫,潤(rùn)滑作用減小,磨麵失去光澤,甚至出現黑(hēi)斑,輕合(hé)金則會拋傷表麵。

  當然,我們為了達到粗拋(pāo)的目(mù)的(de),要求轉(zhuǎn)盤轉速較(jiào)低,最好不(bú)要超過600r/min;拋光時間應當比去掉劃痕所需的時間長些,因為還要去(qù)掉變形層。粗拋後(hòu)磨麵光滑,但黯淡無光,在顯微鏡下觀察有均勻細致的磨痕,有待精拋消除。


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